
Die Rolle der Nanoimprint-Technologie im chinesischen Halbleitermarkt
Laut einem Bericht des US-Halbleitertechnologieunternehmens SemiAnalysis wird die Nanoimprint-Lithographie-Technologie von Canon international im Halbleiterbereich als „vergleichbar oder sogar überlegen gegenüber EUV-Lithographie“ angesehen und könnte ein Schlüssel zu Chinas Fortschritten in der Chipproduktion sein. Die Analyse legt nahe, dass es theoretisch…









